Depozice tenkých vrstev

Orientujeme se především na výzkum nových způsobů návrhu a depozice tenkých vrstev s unikátními vlastnostmi, vývoj prostředků a metod pro řízení depozičního procesu a na materiálový a strukturní výzkum vrstev.

Tým a vybavení

• Výzkumníci s odborností v oborech elektroniky, automatizovaného řízení a měřicích technik, laboranti odpovědní za přípravu povrchů před nanášením vrstev;
• doktorandi a studenti posledních ročníků magisterského studia, kteří se zabývají tématy depozice zvláštních dielektrických vrstev či jejich charakterizace;
• zařízení pro vakuovou depozici tenkých vrstev - 5 vakuových komor s napařovací nebo naprašovací technologií;
• měřicí přístroje pro analýzu optických vlastností vrstev (UV-VIS-IR spektrometrie, spektroskopická elipsometrie) umožňující nedestruktivní charakterizaci neznámých nebo ne zcela popsaných soustav tenkých vrstev;
• měření povrchových vlastností vrstev pomocí interferometrie bílým světlem (WLI) a mikroskopem atomárních sil (AFM);
• softwarové prostředky pro návrh soustav vrstev a teoretické rozbory jejich vlastností (Film 2000 a OptiLayer), nestandardní úlohy, pro které nejsou tyto softwary vhodné, řešíme vlastními kódy v prostředí VisualC++ a Matlab;
• prostředky pro řízení a automatizaci depozičních aparatur – soft-PLC systém ControlWeb,  hardwarové prostředky DataLab, National Instruments a elektronika vlastní konstrukce.

Činnost

• Návrh soustav tenkých vrstev - výzkum optimální kompozice soustav tenkých vrstev a procesů jejich depozice s aplikací ve VIS a IR oboru, nové přístupy k prostorové homogenizaci depozice;
• výzkum absorpce v systémech tenkých vrstev s aplikací ve vrstvách pro výkonné laserové systémy;
• výzkum absorpce vrstev ve střední a dlouhé infračervené oblasti a struktur vrstev potlačujících vliv vodních par na optické parametry vrstev;
• charakterizace soustav tenkých vrstev (elipsometrie, spektrometrie) s možností využití technik destruktivní analýzy na zařízeních partnerských pracovišť);
• vývoj řídicích, monitorovacích a napájecích systémů pro vakuovou depozici - vývoj systémů pro řízení nestandardních depozičních procesů (feroelektrické vrstvy, kombinace materiálů);
• prototypová výroba speciálních tenkých vrstev, výpočty soustav tenkých vrstev na základě požadavků odběratele vč. simulace výtěžnosti při depozici a optimalizace dle charakteru depoziční technologie.

Projekty

• “Technology Pre-development of Thermal Infra-Red Imager” pro Airbus Defence & Space (Francie);
• Galium Fosfor připravený technologií vertikálního chladícího gradientu jako základní materiál pro optiku infračervených senzorů;
• Čerpací moduly pro výkonové vláknové lasery.

Spolupráce

Navázali jsme spolupráci s vědeckovýzkumnými pracovišti jak v zahraničí, kde spolupracujeme například s Fraunhoferovým Institutem (Německo), tak i s pracovišti v České republice, např. se Západočeskou univerzitou v Plzni (Fakulta aplikovaných věd), Masarykovou univerzitou v Brně (Přírodovědecká fakulta), Technickou univerzitou v Liberci (Fakulta mechatroniky), Fyzikálním ústavem AV ČR, v.v.i. aj.

Kontakt

Ing. Jan Václavík, Ph.D.
Tel.: +420 487 953 902
Mob.: +420 608 043 898
Email: vaclavik@ipp.cas.cz